Intel хочет обойтись при освоении норм 10 нм без жесткого ультрафиолета
на данный момент в Сан-Франциско проходит мероприятие Intel Developer Forum (IDF) 2014, на котором ведущий производитель x86-совместимых процессоров говорит о собственных новинках, планах и достижениях. Но кое-что о замыслах в области процессов полупроводникового производства стало известно еще до открытия IDF. Как утверждает источник, компания Intel подтвердила, что не будет применять сканеры, трудящиеся в твёрдом ультрафиолетовом диапазоне (Extreme Ultra Violet, EUV) для выпуска продукции по нормам 10 нм.
Это решение было ожидаемым, не смотря на то, что и неочевидным. Большая часть наблюдателей, полагавших, что Intel не будет применять EUV на этапе 10 нм, было кроме этого уверено, что компания не столкнется с технологическими сложностями при освоении норм 14 нм. Но, если судить по задержкам с выпуском процессоров Broadwell, эта уверенность была не в полной мере обоснованной.
Но, перенос сроков выпуска Broadwell не обязательно связан с технологическими качествами, и в полной мере возможно намеренным.
Процессоры, производимые по нормам 10 нм, Intel собирается иметь в 2016 году. Соответствующий техпроцесс взял обозначение P1274. При условии применения EUV переход на более узкие нормы, на первый взгляд, имел возможность бы быть несложнее.
Однако, это не верно. В Intel растолковывают отказ от перехода на сканеры EUV большими накладными затратами. Дело в том, что сканер в чистой помещении возможно назвать вершиной айсберга.
Для обеспечения его работы употребляется внушительная инфраструктура, так что переход на сканеры EUV повлек бы за собой полную перестройку производства. С учетом этого, эволюционное усложнение существующей разработке выглядит экономически более привлекательно.
Источник: WCCFtech